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上海多栋4层科研办公楼电气施工图(含水暖)一.工程概况:本工程为御河硅谷产学研国际促进中心C39~C45组团,C39、C40、C41、C42、C43为地上四层建筑,建筑高度为21.4m;C44、C45为地上三层建筑,建筑高度为16.9m。
总建筑面积:C39约1463.7m%%172,C40约1165.9m%%172,C41约3506.4m%%172,C42约1477.7m%%172,C43约114